运动平台在真空环境中的应用：超高真空 (UHV) 光栅助力提升稳定性

“真空”的基本定义是指某一空间内的气体分子透过外力将其移走，使气压下降小于大气，从而产生真空。实验室或工厂制造真空的方法是利用泵在密闭的空间中（真空腔）抽出空气以达到不同纯度的真空，分为低真空、中等真空、高真空或超高真空。

许多精密工业制程都必需在真空环境下进行，目的是减少任何气体份子在制程中对加工品的影响。而制程中所涉及到的相关运动控制零组件如导轨，基体等金属材料，以及电机散热问题，则需要经过严格考虑，并采用兼容真空环境的光栅系统。

在真空环境中应用的光栅部件都必需经过特殊设计，包括耐高温——真空腔需要加热到100°C或以上以缩短抽真空和获取较高等级的真空度所需要的时间；高洁净度——光栅组件需要特殊包装和运输，因为组件上任何污染物如机油，油脂，甚至指纹在真空中都会释出气体，影响直空度；降低整体气体量释出——读数头电路板、黏胶或漆料中含有的塑料（含挥发性溶剂）。

在真空中释出气体，不仅导致所释出细小颗粒或灰尘对加工品造成损坏，而且会导致真空室中的压力明显上升。

真空平台配置RLE激光尺系統

半导体真空平台

VAD主要为客户开发客制化的精密运动平台，当中包括提供给需要在真空环境下工作的制程设备。目前VAD大部份平台型号均采用雷尼绍TONiC系列光栅系统，视乎精度要求配置不同种类的栅尺。

VAD总裁Song, Baek-Kyun先生说道：“VAD一般平台型号配置RTLC系列钢带栅尺，如果涉及真空应用、像显示面板AOI检测设备或半导体制程设备等，我们会配置更高精度的RELM系列栅尺，配置兼容真空的TONiC读数头，连接到位于真空腔外的接口。另外我们开发用于半导体EUV光刻机的膜板检测设备，由于精度要求达到ppm等级，需要采用雷尼绍高端的RLE系列激光尺定位系统，激光发射头安装在XY平台上，而雷尼绍是市场上少数可以提供性能稳定的激光尺之一。”

雷尼绍TONiC UHV超高真空兼容光栅系列，从读数头，电缆到栅尺都是必需经过专门设计，真空压力高达10^-10 Torr，读数头配置RFI屏敝线缆，其基本工作原理，规格性能与我们在大气压下使用的标准型TONiC型号无异，但是UHV光栅的读数头在设计上消除了气密孔，并且由高洁净的真空兼容材料和粘合剂特制而成，以避免对加工产品质量造成损坏。

而雷尼绍直空型光栅也获得独立的专业检验机构鉴定，包括残留气体分析 (RGA) 光谱测试，在整个生产过程中确保在清洁的条件下进行，并有专门设计的包装运输以避免污染。